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反滲透設(shè)備常見(jiàn)污染物及其去除方法:
碳酸氫鈣垢
清洗液2(見(jiàn)表2)是將碳酸氫鈣垢從反滲透膜表層去祛除的較好方式。
氫氧化物垢
能夠應(yīng)用上邊上述的除去碳酸氫鈣垢的方式,非常容易地除去堆積出來(lái)的氫氧化鎳(比如氫氧化鐵)。
硅垢
針對(duì)并不是與氫氧化物或有機(jī)化合物相互依存的硅垢,一般僅有根據(jù)專(zhuān)業(yè)的清洗方式才可以將她們除去,
碳酸氫鈣垢
在反滲透阻垢劑加上系統(tǒng)軟件出現(xiàn)常見(jiàn)故障時(shí)或加酸系統(tǒng)軟件出現(xiàn)常見(jiàn)故障而造成給排水PH值上升,那麼碳酸氫鈣就會(huì)有很有可能堆積出去,應(yīng)盡快發(fā)覺(jué)碳酸氫鈣垢沉定的產(chǎn)生,以避免生長(zhǎng)發(fā)育的結(jié)晶對(duì)膜表層造成損害,如初期發(fā)覺(jué)碳酸氫鈣垢,可以用減少給排水PH至3.0~5.0中間運(yùn)作1~2鐘頭的方式除去。對(duì)沉定時(shí)間更長(zhǎng)的碳酸氫鈣垢,則應(yīng)選用檸檬酸鈉清洗液開(kāi)展循環(huán)系統(tǒng)清洗或整夜侵泡。
注:應(yīng)保證一切清洗液的PH值不必小于2.0,不然很有可能會(huì)對(duì)RO膜元件導(dǎo)致危害,尤其是在溫度較高時(shí)更應(yīng)留意,較大的PH不可高過(guò)11.0??蓱?yīng)用氫氧化鈉來(lái)提升PH,應(yīng)用鹽酸或硫酸來(lái)減少PH值。
有機(jī)化學(xué)堆積物
有機(jī)化學(xué)堆積物(比如微生物菌種泥污或霉點(diǎn))能夠應(yīng)用清洗液3除去,為了更好地避免再繁育,可應(yīng)用經(jīng)認(rèn)同的除菌水溶液在系統(tǒng)軟件中循環(huán)系統(tǒng)、侵泡,一般需長(zhǎng)時(shí)間侵泡才可以合理,如反滲透設(shè)備
在一切正常工作壓力下如商品出水量降至標(biāo)準(zhǔn)值的10–15%。
為了更好地保持一切正常的商品出水量,經(jīng)溫度校準(zhǔn)后的給排水工作壓力提升了10–15%。
商品水體減少10–15%;鹽透過(guò)率提升10–15%。
應(yīng)用工作壓力提升10–15%。
RO每段間的壓力差提升顯著(或許沒(méi)有儀表盤(pán)來(lái)檢測(cè)這一征兆)。
停止使用超出三天時(shí),較好是選用消毒殺菌解決,請(qǐng)與海德能企業(yè)會(huì)商以明確適合的農(nóng)藥殺菌劑。
清洗液
清洗反滲透膜元件時(shí)提議選用表2列出的清洗液。明確清洗液前對(duì)空氣污染物開(kāi)展化學(xué)成分分析是十分關(guān)鍵的,對(duì)剖析結(jié)果的深入分析較為,可確保挑選較好的清洗劑及清洗方式,應(yīng)紀(jì)錄每一次清洗時(shí)清洗方式及得到的清洗實(shí)際效果,為在特殊給排水標(biāo)準(zhǔn)下,找到較好的清洗方式出示根據(jù)。
針對(duì)無(wú)機(jī)物空氣污染物提議應(yīng)用清洗液1。針對(duì)碳酸氫鈣及有機(jī)化合物提議應(yīng)用清洗液2。針對(duì)比較嚴(yán)重有機(jī)化合物環(huán)境污染提議應(yīng)用清洗液3。全部清洗液能夠在較高溫度為華氏104度(40℃)下清洗一個(gè)小時(shí),所需藥物量以每100加侖(379升)中添加量計(jì),配置清洗液時(shí)按占比添加藥物及清洗自來(lái)水,應(yīng)選用沒(méi)有分散氯的反滲透商品水來(lái)配置水溶液并混和勻稱(chēng)。
要留意下列好多個(gè)難題
1.在一切狀況下不必讓含有分散氯的水與復(fù)合袋元件觸碰,假如產(chǎn)生這類(lèi)觸碰,可能導(dǎo)致膜元件特性降低,并且從此沒(méi)法修復(fù)其特性,在管道或設(shè)備除菌以后,應(yīng)保證送反滲透膜元件的給水里無(wú)分散氯存有。在沒(méi)法明確是不是有分散氯時(shí),應(yīng)根據(jù)檢驗(yàn)來(lái)認(rèn)證。應(yīng)應(yīng)用氫氧化鈉水溶液來(lái)中合殘留氯,并保證充足的觸碰時(shí)間以確保反映徹底。
2.在反滲透膜元件貸款擔(dān)保期限內(nèi),提議每一次反滲透膜清洗應(yīng)在與商議后開(kāi)展,較少在首先次清洗時(shí),海德能企業(yè)的當(dāng)場(chǎng)服務(wù)項(xiàng)目工作人員應(yīng)在現(xiàn)場(chǎng)。
3在清洗水溶液中應(yīng)防止應(yīng)用正離子表活劑,由于假如應(yīng)用很有可能會(huì)導(dǎo)致膜元件的不可避免的環(huán)境污染。
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